其實(shí)，該實(shí)驗(yàn)?zāi)シ蹤C(jī)和工業(yè)生產(chǎn)的磨粉機(jī)不同，主要在于產(chǎn)量要求很小、細(xì)度要求很高、占地面積小。而傳統(tǒng)的工業(yè)磨粉機(jī)雖然細(xì)度也能達(dá)到要求，而價(jià)格昂貴、占地面積大等原因。

　　從組成結(jié)構(gòu)上看，小型雷蒙磨與其他磨粉設(shè)備并沒(méi)有什么區(qū)別，不過(guò)區(qū)別主要在于小型磨粉機(jī)體型小，輔助設(shè)備配置不全（或部分齊全），這是從表面上看。若從根本的工作原理來(lái)看，要從粉磨設(shè)備主機(jī)中區(qū)分，在主機(jī)中磨輥總成通過(guò)橫擔(dān)軸懸掛在磨輥吊架上，磨輥吊架與主軸及鏟刀架固定聯(lián)系，壓力彈簧壓在磨輥軸承室的懸臂外端面上，以橫擔(dān)軸為支點(diǎn)迫使磨輥緊緊壓在磨環(huán)內(nèi)圓表面上，當(dāng)電動(dòng)機(jī)通過(guò)傳動(dòng)裝置帶動(dòng)主軸轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，裝在鏟刀架上的鏟刀與磨輥同步旋轉(zhuǎn)，磨輥在磨環(huán)內(nèi)圓滾動(dòng)的同時(shí)繞自身軸自轉(zhuǎn)。

　　實(shí)驗(yàn)?zāi)シ蹤C(jī)適用于中低粘度流體的濕法研磨，屬于間歇式生產(chǎn)的實(shí)驗(yàn)室生產(chǎn)設(shè)備。物料通過(guò)研磨介質(zhì)之間不規(guī)則的碰撞所產(chǎn)生的各個(gè)方向的強(qiáng)大動(dòng)能，使物料中的顆粒粒徑變小。分散研磨一體，減少了工藝過(guò)程，一臺(tái)設(shè)備加一個(gè)容器即能完成分散研磨，提高生產(chǎn)效率，減少了物料浪費(fèi)。較其他研磨設(shè)備，該產(chǎn)品清洗方便，適合多品種物料研磨。

　　以上即是關(guān)于實(shí)驗(yàn)?zāi)シ蹤C(jī)與傳統(tǒng)磨粉機(jī)的區(qū)別，希望對(duì)你有所幫助。